第92章 我看这局面他卿云又能怎么破！（第2/3页）

“董事长，您有所不知，内陆的情况早已今非昔比。

如今，他们已经度过了资金最为紧张的阶段，资本的触角四处延伸，不再单纯渴求外部技术与资金的注入。

而且，政策层面也发生了显著变化，新出台的法规明确规定无形资产出资占比不得超过20%，这无疑是对我们传统合作模式的极大限制。

更重要的是，内陆的民间资本如今活跃非凡，他们对半导体产业的热情高涨，不再像过去那样依赖外部力量的推动。”

他其实很想说，章忠谋对国内的印象似乎还停留在几年前，但事实上，如今国内发展半导体的环境早已不可同日而语。

当年夷洲岛的情况是民营资本对半导体产业望而却步，产业的发展全靠行政力量的强势推动。

可如今的华国，以炎黄集团、华唯等科技巨头为首，他们在半导体领域的投入慷慨而大方，毫无保留。

经过20年的改革开放，华国已经完成了产业资本的原始积累，资本正在积极寻找新的投资出口。

在江尚义看来，那位炎黄小卿总的出现所带来的影响，远超建立炎黄集团本身。

这个时机太巧妙了，正好是互联网泡沫被戳破的恢复期里。

而华国站在经济社会转型的十字路口上时，那位小卿总却靠着自己崛起的实例，引领着民间产业资本走向产业升级的道路，而非盲目追随90年代末期互联网产业的热潮。

现在华国社会的造富神话，不再局限于互联网领域的神童与大佬，而是转向了更具实体价值的科技企业。

炎黄集团所创造的年利润规模，已经远远超出了人们的想象。

像章朝阳、程天乔这种互联网公司年利润几亿和炎黄集团科技企业这种年利润过百亿的对比，太明显了。

这一鲜明对比，彻底打破了人们的认知天花板。

随着理念的转变，人们的胃口也随之增大，对产业的期望值也水涨船高。

而对于地方来说，像炎黄集团这种动辄拿地几千上万亩，解决当地上万人吃饭就业问题的企业，才是好企业。

想到这里，江尚义叹了口气，“董事长，尽管我也觉得很不舒服，但我们必须正视国内市场的变化，不能仅仅停留在过去的认知上了。”

章忠谋闻言，面色微微沉了下来，他其实也清楚江尚义所言有理。

信息的时代，消息的流通远比以往频繁，国内的风向转变他并非全然不知。

只是心中那股不愿服输的执念，让他难以轻易接受这事实。

缓缓地摇了摇头，他轻声骂了一句“靠北！”

随后，语气中带着一丝狠戾，“那就更不能让他们起这个势头了！”

江尚义点了点头，表示认同。

虽然炎黄集团在半导体产业的具体进度对他们而言是个谜，但内地学界的动向却并非无迹可寻。

那些曾经因资金、技术或政策限制而被迫按下暂停键的课题，如今正纷纷重启，这无疑是一个危险的信号。

“董事长，后发优势不容小觑，他们可以避开我们走过的弯路，直接在我们的基础上进行创新和突破，这能节省大量的时间和资源。”

江尚义进一步解释道，试图让章忠谋更清晰地看到形势的严峻性。

章忠谋沉吟片刻，似乎在权衡利弊，最终他揉了揉自己的鼻翼，似乎下定了决心，

“那就我们也出点资金和设备，这总行了吧，但记住，我们要控股权，这本质上就是生意，借他们的资金和人力资源孵我们的蛋。”

江尚义却深知这其中的复杂与风险，他谨慎地开口，“恐怕不行，这方面阿美莉卡和当局都是有管控的。”

他停顿了一下，继续说道，“再说了，一旦我们投入技术，那么要不了两年，华国便可以学会。

技术这东西，一旦流传出去，就如泼出去的水，难以收回。

何况还有设备，这更是严格管控的物资。

无论是光刻设备还是蚀刻设备，或者是化学气相沉积相关的配套设备，这都是瓦森纳协议严格禁止的东西。

一旦流入到华国，不仅我们的技术优势将荡然无存，夷积电也很可能会陷入被动，甚至面临国际舆论和政策的双重压力，得不偿失。”

章忠谋微微摇头，嘴角勾起一抹意味深长的笑容，

“尚义，这里面有个信息差，你或许还不清楚。

阿美莉卡实际上已经放宽了对华国的限制。

我有确切的消息，因特尔已经将一批技术转让给了炎黄集团。

而这批技术的最新时间点是1994年的。

按照这个时间线以及瓦森纳协定的精神，1993年问世的0.35微米工艺，我们是完全可以在华国生产，而不用担心阿美莉卡的长臂管辖。”

他顿了顿，眼中闪过一丝精光，“而半年前，华国的技术水平还停留在1984年的1.25微米水平。

我们就算他们能采取跳跃式发展，也不可能在短短一年内完成1微米、0.8微米、0.6微米、0.35微米四代工艺的跨越。

说到这里，他哈哈大笑了起来，“更何况他们还在使用436nm G线光源，而且还是接触式路径。”

江尚义听后也露出了笑容。

这是他们曾经走过的老路，是再熟悉不过的。

接触式路径，掩模直接贴在硅片上进行光刻，不仅容易造成污染，而且掩模的使用寿命也相对较短。

后来的接近式光刻技术对此进行了改进，通过在掩模和硅片之间形成一层薄薄的气垫，使两者不再直接接触，提高了良率也提升了掩膜的寿命，这大大的降低了成本。

但气垫的存在，又会影响成像的精度，所以G线光源的最高制程也只能达到0.35微米工艺。

而G线光源的下一代是波长365nm的I线光源，其最高制程工艺可以达到0.25微米。

再往下发展，就必须采用第三代光源，即波长248nm的KrF（氟化氪）准分子激光，它能够实现130nm的制程。

至于第四代光源，则是目前最先进的193nm ArF（氟化氩）准分子激光。

按照林本坚的理论，这种光源通过浸入式技术，理论上可以将制程推进到22nm，甚至在孙元成根据David Mann公司的重复曝光理论推测，还能更低。

章忠谋耸了耸肩，语气中带着浓浓的不屑，“从G线到I线，我们用了整整16年的时间。

即便华国存在所谓的后发优势，他们也不可能在短短半年内就达到那样的技术水平。

况且，半导体产业是一个高度复杂的综合性产业，制造一颗芯片需要经过1000多个不同的流程，整个生产系统由上千个不同的部件组成，仅一个光刻机就包含了8万多个精密零件。